Фотолитографија

Фотолитографија – е метод на цртање на тенки слоеви на материјал кој се користи во микроелектроника и во печатењето. Исто така, се нарекува „оптичка литографија“ и во суштина претставува формирање на слика на површината со изложување на фотосензитивен материјал^[1]. 'Фоторезист' - е посебен фотографски материјал што ги менува неговите физичко-хемиски својства кога е изложен на светлина.

Фотошаблон или Фотомаска - транспарентна плоча за осветлување на која има површина непробојна за светлината.

Процесот на фотолитографијата:

На подлогата (во микроелектроника ова е најчесто силициум) се користи тенок слој на материјал за да се формира образецот. На него се применува фоторезист.
Изложеност преку образец за фотографии (со контакт или метод на проекција).
Изложените области на фоторезистот ја менуваат нивната растворливост и можат хемиски да се отстранат (процес манифестација). Регионите без фоторезист се подложени на последователен третман гравирање, во кој преостанатиот неотворен фоторезист служи како маска.
Конечно, остатоците од фоторезистот се отстранети.

Процесот има и негативни и позитивни опции. Ако, по изложеност, растворливоста на осветлените области се промени (тие стануваат растворливи и се отстрануваат), процесот е позитивен; во спротивно - кога тие стануваат нерастворливи и остануваат - тоа е негативно^[2].

Фотолитографијата денес има најчеста употреба во печатарството.