半导体存储器 (英語:semiconductor memory )是一种用于数字数据存储 的数字电路 半导体器件 ,例如電腦記憶體 。数据會存储在硅 集成电路 存储芯片 上的金属氧化物半导体 (MOS)存储单元 内[ 1] [ 2] [ 3] 。目前有许多不同的类型的半导体技术。两种常見的随机存取存储器 (RAM)中其中一個是静态RAM (SRAM),它在每个存储单元使用多个MOS晶体管 ,另一個是动态RAM (DRAM),每个单元使用一个MOS晶体管和一个MOS电容 。非易失性存储器 (如EPROM 、EEPROM 和闪存 )使用浮栅 存储单元,每个单元由一个浮栅MOS 晶体管 组成。大多数类型的半导体存储器都具有随机访问 的特性,[ 4] 也就是说访问任何存储位置所需时间相同,因此数据可以以任意顺序高效访问。[ 5] 这与如光盘 等顺序访问的存储介质形成对比,后者按写入顺序读取和写入数据。半导体存储器还具有远快于其他类型存储设备的读取时间 ;访问一个字节 的数据只需几纳秒 ,而如硬盘等旋转存储设备的访问时间通常为毫秒级。由于这些原因,半导体存储器被用于主存储器 ,用于保存计算机当前处理的程序和数据等用途。
截至2017年 (2017-Missing required parameter 1=month ! ) [update] ,全球半导体存储芯片销售额每年达1240亿美元,占半导体产业 的30%。[ 6] 诸如移位寄存器 、处理器寄存器 、数据缓冲器 等不具备地址解码器 的较小数字寄存器,尽管也存储数字数据,通常不称为“存储器”。
描述
在半导体存储芯片中,每一位二进制数据存储在一个被称为“存储单元 ”的小型电路中,通常由一个或多个晶体管 组成。这些存储单元以矩形阵列方式布局在芯片表面。单比特存储单元组合为较小单元,称为“字”(word),作为一个地址单元整体访问。存储器通常按2的幂作为“字长”(N=1、2、4、8位)制造。
通过施加一个称为内存地址 的二进制数字到芯片的地址引脚,可访问特定字。如果地址为M位,则芯片包含2M 个地址,每个地址存有一个N 位字,因此每片芯片的容量为N 2M 位。[ 5] 存储容量通常以2的幂来表示:2、4、8、16、32、64、128、256、512等,以千位(Kb)、兆位(Mb)、吉位(Gb)或太位(Tb)为单位。截至2014年 (2014-Missing required parameter 1=month ! ) [update] ,最大容量的半导体存储芯片可存储数吉位数据,但更高容量的芯片正在不断开发中。多个集成电路可以组合使用,以扩展字长和/或地址空间,通常但不必然是2的幂。[ 5]
存储芯片的两种基本操作是“读取”(read)和“写入”(write)。读取是非破坏性地读取某个地址中的数据内容,写入则是将新数据写入某地址,替换原有数据。为了提高数据传输速率,某些最新型的存储器如DDR SDRAM 在每次读写操作中可以访问多个字。
除独立的存储芯片外,半导体存储块也是许多计算机和数据处理集成电路 (如微处理器 )的组成部分,例如微处理器中通常集成缓存 以存储等待执行的指令。
类型
易失性存储器
用于计算机的随机存取存储器 (RAM)芯片通常以内存模块 的形式插入计算机主板,可通过添加模块扩展内存容量。
易失性存储器 在电源关闭时会丢失其存储的数据,但其速度更快且成本较低,因此被广泛用于计算机的主存储器,数据在计算机关机时保存在硬盘 上。主要类型包括:[ 7] [ 8]
RAM (Random-access memory)这个术语如今已经成为对任何可以被读取和写入的半导体存储器 的通用称呼,与只能读取的ROM (见下文)相对。事实上,所有半导体存储器 ,不仅限于RAM,都具备随机访问 的特性。
DRAM (Dynamic random-access memory)使用由一个MOSFET (金属氧化物场效应晶体管)和一个MOS电容组成的存储单元 来存储每一位数据。这种类型的RAM价格最低、密度最高,因此被广泛用于计算机的主存。然而,存储单元中保存数据的电荷 会逐渐泄漏,因此需要定期进行存储器刷新 (即重写),这需要额外的电路。刷新过程由计算机自动处理,对用户是透明的。
快速页模式DRAM(FPM DRAM) 是一种较早的异步DRAM类型,相较更早期的DRAM,它允许对同一“页”内存的重复访问以更快速率进行。广泛用于1990年代中期。
扩展数据输出DRAM(EDO DRAM) 是一种具有更快访问时间的旧型异步DRAM,它可以在前一次数据仍在传输的同时发起新的访问请求。主要用于1990年代后期。
VRAM (Video random-access memory)– 一种旧式的双端口RAM ,曾用于显示卡 的帧缓冲区 中。
SDRAM (Synchronous DRAM)是在DRAM芯片中加入了用于与计算机内存总线 时钟信号同步的电路。这使芯片能通过流水线处理 同时处理多个内存请求,提高了访问速度。芯片中的数据还被划分为多个“内存块”,可并行执行操作。该类型约自2000年起成为主流计算机内存。
DDR SDRAM (双倍数据率SDRAM)是通过双倍数据速率 传输技术,每个时钟周期可传输两个连续数据字,提升带宽。这一理念的多代扩展仍是当前(截至2012年)提升内存访问速率与吞吐量的主流方案。由于进一步提高内存芯片内部时钟频率已变得困难,芯片转而通过每个时钟周期传输更多数据字以提升性能:
RDRAM (Rambus DRAM)是一种替代性双倍数据率内存标准,曾用于部分Intel系统,但最终未能与DDR SDRAM竞争成功。
SGRAM (Synchronous graphics RAM)是一种专为显示卡 设计的SDRAM。它可以执行如位掩码 和块写等图形操作,且能同时打开两个内存页。
HBM (High Bandwidth Memory)是SDRAM的一种发展形式,常用于显卡中以实现更高的数据传输率。其结构为多个内存芯片的垂直堆叠,并配有更宽的数据总线。
PSRAM (Pseudostatic RAM)是一种集成有存储器刷新 电路的DRAM,因此可表现为SRAM,允许关闭外部内存控制器以节能。应用于部分游戏机 ,如Wii 。
SRAM (Static RAM)的每个位 由一个触发器 (由4至6个晶体管构成)进行存储。与DRAM相比,SRAM密度低、价格高,但速度更快且无需刷新。常用于计算机的缓存 中。
CAM (Content-addressable memory)是一种特殊内存,不通过地址访问数据,而是输入一个数据字,如果该数据存在,内存会返回其所在地址。主要用于嵌入微处理器 的芯片中,例如用于缓存存储器 。
非易失性存储器
4M EPROM,顶部透明窗可用于擦除芯片内容
非易失性存储器 (Non-volatile memory,NVM)是一种在断电时仍能保留所存数据的存储器。因此,它常用于无需磁盘的便携式设备中的内存,以及可移动的存储卡 等用途。主要类型包括:[ 7] [ 8]
ROM (Read-only memory)用于保存永久性数据,在正常操作中只能读取,不能写入。尽管许多类型的ROM都可以写入,但写入过程通常缓慢,并且往往需要一次性重写整块芯片的数据。ROM通常用于存储计算机需立即访问的系统软件 ,例如启动计算机的BIOS 程序,以及便携式设备和嵌入式计算机(如微控制器 )的微码 。
MROM (Mask programmed ROM或Mask ROM),在此类型中,数据在芯片制造阶段即被写入,因此仅用于大规模生产。该类型ROM无法被重新写入。
PROM (Programmable read-only memory),此类型的芯片在安装前即可被写入一次,但只能写入一次。写入过程需将芯片插入专用设备,即PROM编程器中。
EPROM (Erasable programmable read-only memory,或UVEPROM),该类型的ROM可通过紫外线擦除数据,并重新编程。需要将芯片从电路板上取出,暴露于紫外线 下以清除原有数据,然后插入PROM编程器进行重写。芯片封装顶部通常有一个透明“小窗”,用于透光。EPROM常用于原型开发和小批量生产设备中,以便在工厂更换或更新程序。
EEPROM (Electrically erasable programmable read-only memory),此类型芯片可在电路板上电擦写,但写入速度较慢。EEPROM通常用于保存固件 ,即控制硬件设备运行的底层微代码,如多数计算机中的BIOS 程序,以便后续更新。
NVRAM (Non-volatile random-access memory)
FRAM (Ferroelectric RAM)是一种非易失性RAM类型。
闪存 (Flash memory)的写入速度介于EEPROM与RAM之间,可写入但不够快,无法作为主内存使用。它常被用作硬盘驱动器 的半导体替代方案,用于文件存储。广泛应用于诸如PDA、USB闪存驱动器 、以及用于数码相机 和手机 的可移动存储卡 等便携式设备中。
历史
早期的计算机存储器 采用的是磁芯存储器 ,因为当时早期的固态电子 半导体 (包括如双极型结型晶体管 (BJT)之类的晶体管 ),并不适合用作数字存储元件(存储单元 )。最早的半导体存储器可追溯至20世纪60年代初,当时采用的是双极型存储器,其使用双极型晶体管。[ 9] 由离散器件 构成的双极型半导体存储器首次由德州仪器 于1961年交付给美国空军 。同年,仙童半导体 的应用工程师 鲍勃·诺曼(Bob Norman)提出了在集成电路 (IC)芯片上实现固态电子存储器的构想。[ 10] 第一个单芯片存储器IC是由保罗·卡斯特鲁奇(Paul Castrucci)于1965年12月研发的BJT 16位IBM SP95芯片。[ 9] [ 10] 虽然双极型存储器在性能上优于磁芯存储器,但因价格高昂而未能与之竞争,因此磁芯存储器直到1960年代末仍占据主导地位。[ 9] 双极型存储器未能取代磁芯存储器的一个原因是,其触发器 电路过于庞大且成本高昂。[ 11]
MOS存储器
金属氧化物半导体场效应晶体管 (MOSFET)的出现,[ 12] 由贝尔实验室 的穆罕默德·阿塔拉 和姜大元 于1959年发明,[ 13] 使得使用金属氧化物半导体 晶体管作为存储单元 成为可能,而这一功能此前是由磁芯存储器 承担的。[ 12] MOS存储器由仙童半导体 的约翰·施密特(John Schmidt)于1964年开发。[ 14] [ 15] 与磁芯存储器相比,MOS存储器性能更高、成本更低、功耗也更小。[ 14] 最终,MOSFET取代磁芯,成为计算机存储器的主流技术。[ 12]
1965年,皇家雷达研究院 的J. Wood和R. Ball提出了采用CMOS (互补型MOS)存储单元的数字存储系统概念,同时也提出了MOSFET功率器件 在电源 、交叉耦合、开关 及延迟线存储器 方面的应用。[ 16] 1968年,仙童半导体 的佛德里克·法金 开发了硅栅MOS集成电路 技术,使得生产MOS存储芯片成为可能。[ 17] IBM 于1970年代初开始商业化NMOS逻辑 存储器。[ 18] 到1970年代初,MOS存储器超越磁芯存储器成为主流。[ 14]
在计算机领域,“内存”一词通常指易失性的随机存取存储器 (RAM)。主要的两种类型为静态随机存取存储器 (SRAM)与动态随机存取存储器 (DRAM)。1963年,罗伯特·诺曼(Robert Norman)在仙童半导体发明了双极型SRAM,[ 9] 随后,约翰·施密特于1964年开发了MOS SRAM。[ 14] SRAM成为磁芯存储器的替代方案,但每个比特 的数据需要使用六个MOS晶体管。[ 19] 1965年,IBM在其System/360 Model 95中引入SP95 SRAM芯片,开启了SRAM的商业化。[ 9]
东芝 于1965年在其Toscal BC-1411电子计算器 中引入了双极型DRAM存储单元 。[ 20] [ 21] 尽管其性能优于磁芯存储器,但因成本较高未能取代磁芯的主导地位。[ 22] 现代DRAM基于MOS技术。1966年,IBM Thomas J. Watson研究中心 的羅伯特·丹納德 博士在研究MOS技术时,发现可以利用MOS电容储存电荷表示“1”或“0”,并由MOS晶体管控制充电,从而发明了单晶体管DRAM存储单元。[ 19] 1967年,丹纳德以IBM名义申请了基于MOS技术的单晶体管DRAM存储单元专利。[ 23] 这直接促成了世界上第一款商业化DRAM芯片——英特尔 1103的诞生,发布于1970年10月。[ 24] [ 25] [ 26] 同步动态随机存储器 (SDRAM)于1992年由三星电子 推出,型号为KM48SL2000。[ 27] [ 28]
“内存”一词也常用于指代非易失性存储器 ,尤其是闪存 。其起源可追溯至只读存储器 (ROM)。可编程只读存储器 (PROM)由周文俊 (Wen Tsing Chow)于1956年在美国Bosch Arma公司Arma部门发明。[ 29] [ 30] 1967年,姜大元与施敏 (Simon Sze)在贝尔实验室提出可通过MOS浮栅 技术制造可重写ROM单元。这促使英特尔 的Dov Frohman 于1971年发明了EPROM (可擦可编程只读存储器)。[ 31] 1972年,日本經濟產業省 產業技術綜合研究所 的Yasuo Tarui、Yutaka Hayashi与Kiyoko Naga开发了EEPROM (电擦可编程只读存储器)。[ 32] 东芝 的舛岡富士雄 于1980年代初发明闪存 。[ 33] [ 34] 舛岡 及其团队于1984年推出NOR型闪存 ,[ 35] 又于1987年开发NAND型闪存 。[ 36] 东芝于1987年将NAND闪存实现商业化。[ 37] [ 31] [ 31]
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