Институт физики полупроводников имени А. В. Ржанова СО РАН

Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук (ИФП СО РАН)
Международное название	Rzhanov Institute of Semiconductor Physics Siberian Branch of Russian Academy of Sciences
Основан	1964
Материнская организация	Отдел физических наук и Минобрнауки России[3]
Директор	А. В. Латышев[1]
Сотрудников	1000 (2016)[2]
Расположение	Россия, Новосибирск
Юридический адрес	630090, Новосибирск, проспект Академика Лаврентьева, 13
Сайт	isp.nsc.ru
Медиафайлы на Викискладе

Институ́т фи́зики полупроводнико́в им. А. В. Ржанова — один из крупнейших институтов Новосибирского научного центра Сибирского отделения РАН. Основан в 1964 году. У истоков создания ИФП стоял крупный учёный академик Анатолий Васильевич Ржанов^[4].

В состав Института входит 23 научных лаборатории, Новосибирский филиал ИФП СО РАН «Конструкторско-технологический институт прикладной микроэлектроники», в котором разрабатывается и выпускается ряд тепловизионных систем и приборов. На базе Института действует один из наиболее эффективно работающих центров коллективного пользования — ЦКП «Наноструктуры».

В Институте работает около 1000 человек, в том числе в филиале ИФП СО РАН «КТИПМ» — около 220 человек. Общее число научных сотрудников — 227 человек из них, 2 академика РАН, 4 член-корреспондента РАН, 41 доктор наук; 140 кандидатов наук.

Из-за вторжения России на Украину институт находится под санкциями всех стран Евросоюза^[5], Японии^[6], Канады^[7] и США^[8].

Основными направлениями научной деятельности института являются:

• актуальные направления физики конденсированных сред, в том числе физика полупроводников и диэлектриков, физика низкоразмерных систем;
• элементная база микроэлектроники, наноэлектроники, квантовых компьютеров, в том числе физико-химические основы технологий микроэлектроники, наноэлектроники, оптоэлектроники, акустоэлектроники, микросенсорики;
• актуальные проблемы оптики, лазерной физики, включая квантовую электронику^[9].

Институт был основан в 1964 году на базе объединения Института физики твердого тела и полупроводниковой электроники СО АН СССР и Института радиофизики и электроники СО АН СССР (постановление Президиума АН СССР № 49 от 24 апреля 1964 года)^[10]. В 2003 году к Институту физики полупроводников СО РАН был присоединён в качестве филиала Институт сенсорной микроэлектроники СО РАН (постановление Президиума РАН № 224 от 1 июля 2003 года). В 2005 году к ИФП СО РАН был присоединён в качестве филиала Конструкторско-технологический институт прикладной микроэлектроники (постановление Президиума РАН № 274 от 29 ноября 2005 года). В 2006 году Институту присвоено имя академика А. В. Ржанова (постановление Президиума РАН № 400 от 26 декабря 2006 года)^[11]. Постановлением Президиума РАН № 262 от 13 декабря 2011 года Институт переименован в Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук. Постановлением Президиума СО РАН № 440 от 14 декабря 2012 года в целях совершенствования структуры Института Омский филиал Федерального государственного бюджетного учреждения науки Института физики полупроводников им. А. В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук исключен из состава Института.

В соответствии с Федеральным законом от 27 сентября 2013 г. № 253-ФЗ «О Российской академии наук, реорганизации государственных академий наук и внесении изменений в отдельные законодательные акты Российской Федерации» и распоряжением Правительства Российской Федерации от 30 декабря 2013 г. № 2591-р Учреждение передано в ведение Федерального агентства научных организаций (ФАНО России).

• чл.-корр. АН СССР, с 1984 академик А. В. Ржанов (1964—1990)
• член-корр. АН СССР / РАН К. К. Свиташев (1990—1998)
• акад. А. Л. Асеев (1998—2013)
• акад. А. В. Латышев (с 2013)

В состав института входят следующие научные подразделения (более 20 лабораторий, филиал):^[12][13]

• Отдел роста и структуры полупроводниковых материалов, руководитель отдела д.ф.-м.н., профессор О. П. Пчеляков
  • Лаборатория эллипсометрии полупроводниковых материалов и структур, зав.лаб., к.т. н. С. В. Рыхлицкий
  • Лаборатория молекулярно-лучевой эпитаксии элементарных полупроводников и соединений А₃В₅, зав.лаб., к.ф.-м.н. А. И. Никифоров
  • Лаборатория физических основ эпитаксии полупроводниковых гетероструктур, зав.лаб., к.ф.-м.н. В. В. Преображенский
• Отдел физики и технологии полупроводников пониженной размерности, микро- и наноструктур, руководитель отдела академик А. Л. Асеев
  • Лаборатория нанодиагностики и нанолитографии , зав.лаб., член-корр. РАН, д.ф.-м.н. А. В. Латышев
  • Лаборатория физики и технологии структур на основе полупроводников А₃В₅ , зав.лаб., д.ф.-м.н., профессор, член-корр. РАН З. Д. Квон
• Отдел инфракрасных оптоэлектронных устройств на основе КРТ , руководитель отдела д.ф.-м.н. Ю. Г. Сидоров
  • Лаборатория технологии эпитаксии из молекулярных пучков соединений А₂В₆, зав.лаб., к.ф.-м.н. С. А. Дворецкий
  • Лаборатория физико-технологических основ создания приборов на основе полупроводников А₂В₆, зав.лаб., к.ф.-м.н. В. В. Васильев
• Отдел тонкопленочных структур для микро- и фотоэлектроники, руководитель отдела член-корр. РАН, профессор, И. Г. Неизвестный
  • Лаборатория физики и технологии гетероструктур зав, зав.лаб., д.ф.-м.н. А. Э. Климов
  • Группа моделирования электронных и технологических процессов микроэлектроники , руководитель группы, член-корр. РАН И. Г. Неизвестный
• Отдел физики и техники полупроводниковых структур , руководитель отдела д.ф.-м.н., профессор, В. Н. Овсюк
  • Лаборатория кинетических явлений в полупроводниках , и. о. зав.лаб., к.ф.-м.н. Д. Г. Есаев
  • Лаборатория молекулярно-лучевой эпитаксии полупроводниковых соединений А₃В₅, зав.лаб., к.ф.-м.н. А. И. Торопов

• Лаборатория теоретической физики , зав.лаб., академик, профессор А. В. Чаплик
• Лаборатория вычислительных систем, зав.лаб., д.т. н. К. В. Павский
• Лаборатория физической химии поверхности полупроводников и систем полупроводник-диэлектрик, зав.лаб., к.х.н. О. И. Семенова
• Лаборатория оптических материалов и структур , зав.лаб., к.ф.-м.н. В. В. Атучин
• Лаборатория физики и технологии трехмерных наноструктур , зав.лаб., д.ф.-м.н., профессор В. Я. Принц
• Лаборатория неравновесных процессов в полупроводниках , зав.лаб., д.ф.-м.н., профессор, А. С. Терехов
• Лаборатория физических основ материаловедения кремния , зав.лаб., д.ф-м.н. В. П. Попов
• Лаборатория физических основ интегральной микрофотоэлектроники , и. о.зав. лаб., д.ф.-м.н. А. П. Ковчавцев
• Лаборатория технологии кремниевой микроэлектроники , зав.лаб., д.ф.-м.н. О. В. Наумова
• Лаборатория неравновесных полупроводниковых систем . зав.лаб., член-корр. РАН, д.ф.-м.н., профессор, А. В. Двуреченский
• Лаборатория лазерной спектроскопии и лазерных технологий , зав.лаб., д.ф.-м.н. Н. Н. Рубцова
• Лаборатория нелинейных резонансных процессов и лазерной диагностики , зав.лаб., член-корр. РАН, д.ф.-м.н. И. И. Рябцев
• Лаборатория мощных газовых лазеров , зав.лаб., к.ф.-м.н. Д. Э. Закревский

• Научно-исследовательский отдел фотохимических технологий
• Научно-исследовательский отдел тепловидение и телевидения
• Тематический отдел конструирования оптико-электронных приборов
• Тематический отдел электронных систем
• Тематический отдел моделирования оптико-электронных приборов
• Тематический отдел прикладной оптико-электронной техники и технологий
• Тематический отдел специального технологического оборудования

• Асеев, Александр Леонидович — академик
• Богданов, Сергей Васильевич — член-корр. РАН, профессор
• Двуреченский, Анатолий Васильевич — член-корр. РАН, профессор
• Латышев, Александр Васильевич — член-корр. РАН, профессор
• Неизвестный, Игорь Георгиевич — член-корр. РАН, профессор
• Овсюк, Виктор Николаевич — д.ф.-м.н., профессор
• Пчеляков, Олег Петрович — д.ф.-м.н., профессор
• Ржанов, Анатолий Васильевич — академик
• Рябцев, Игорь Ильич — член-корр. РАН, д.ф.-м.н.
• Свиташев, Константин Константинович — член-корр. РАН
• Смирнов, Леонид Степанович — д.ф.-м.н., профессор
• Стенин, Сергей Иванович — д.ф.-м.н.
• Хорошевский, Виктор Гаврилович — член-корр. РАН, профессор
• Чаплик, Александр Владимирович — академик, профессор

• Директор — Латышев, Александр Васильевич — член-корр. РАН, д.ф.-м.н., профессор^[1]
• Заместители директора по научной работе:
  • Двуреченский, Анатолий Васильевич — член-корр. РАН, д.ф.-м.н., профессор
  • Пчеляков, Олег Петрович — д.ф.-м.н., профессор
• Советники РАН:
  • Богданов, Сергей Васильевич — член-корр. РАН, д.ф.-м.н., профессор
  • Неизвестный, Игорь Георгиевич — член-корр. РАН, д.ф.-м.н., профессор

В Институте действует центр коллективного пользования «Наноструктуры»[1] Архивная копия от 19 апреля 2016 на Wayback Machine в котором, проводят исследования различными методами электронной микроскопии атомной структуры, морфологии и химического состава, осуществляется контроль атомарных поверхностей, создаются структуры пониженной размерности для наноэлектроники.

ЦКП создан на базе Новосибирского государственного университета и ряда Институтов СО РАН: ИФП, ИК, ИНХ. Руководитель: член-корр. РАН, профессор А. В. Латышев.

Автоматизированная многомодульная сверхвысоковакуумная установка молекулярно-лучевой эпитаксии «Обь-М» (МЛЭ КРТ «Обь-М») [2] Архивная копия от 19 апреля 2016 на Wayback Machine

Установка молекулярно-лучевой эпитаксии «Обь-М», разработанная и изготовленная в ИФП СО РАН. Установка используется для выращивания наногетероэпитаксиальных структур твердых растворов теллуридов кадмия и ртути (КРТ) и фоточувствительных материалов на основе многослойных гетероструктур из узкозонных твердых растворов КРТ методом молекулярно-лучевой эпитаксии (МЛЭ) на подложках из кремния и арсенида галлия.

Уникальная научная установка «Многофункциональный аналитический субангстремный сверхвысоковакуумный комплекс» (УНУ «МАССК-ИФП»)[3] Архивная копия от 19 апреля 2016 на Wayback Machine

Многофункциональный аналитический субангстремный сверхвысоковакуумный комплекс «МАССК-ИФП» разработан в ИФП СО РАН и не имеет аналогов в РФ. Единственный упрощенный прототип этого оборудования установлен в Токийском технологическом университете в Японии. Уникальный комплекс высокотехнологичного оборудования МАССК-ИФП, входящий в состав ЦКП «Наноструктуры» при ИФП СО РАН, обеспечивает проведение диагностики и прецизионное управление атомными процессами, протекающими на поверхности кристаллов на субангстремном уровне.

• Физико-технический институт имени А. Ф. Иоффе РАН
• Институт физики микроструктур РАН
• Институт физики твёрдого тела РАН
• Институт ядерной физики СО РАН
• Институт автоматики и электрометрии СО РАН
• Институт автоматики и процессов управления ДВО РАН
• Новосибирский государственный университет
• Новосибирский государственный технический университет

• Официальный сайт института Архивная копия от 12 сентября 2011 на Wayback Machine